レーザーテック、28nmプロセス向けフォトマスク欠陥検査装置を発表

2012年10月25日 18時15分 (2012年11月6日 18時16分 更新)
レーザーテックは10月25日、28nmプロセスに対応したフォトマスク欠陥検査装置「MATRICS X700HiTシリーズ」を発表した。

同装置は、新設計の高性能撮像カメラと画像処理ユニットを搭載したほか、独自開発の全固体213nm QCWレーザー光源を搭載することで、従来からの高い欠陥検出性能を維持しつつ、従来機と比較して、検査時間を約40%削減することに成功したという。

これによりスループットは65分/100mm2を実現することが可能だと同社では説明する。

また、OHT(Overhead Hoist Transport)と連動した全自動検査が可能で、検査方式もマルチダイモードおよびシングルダイモードの両方に対応。

さらに、電源・制御系統を本体に内蔵したことで、筐体のコンパクト化も実現したとしている。

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