「次世代パワー半導体に用いるウェハ技術開発」がNEDOのグリーンイノベーション基金事業で採択

～カーボンニュートラル社会の実現に向けた「次世代パワー半導体向けウェハ技術」研究開発～『塗る・切る・磨くで世界を変える』Mipox株式会社(本社：東京都新宿区 代表取締役社長：渡邉 淳 証券コード：5381)は、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構（以下「NEDO」）より公募されていた「グリーンイノベーション基金事業／次世代デジタルインフラの構築」に、研究テーマ「次世代パワー半導体に用いるウェハ技術開発」が採択されたことをお知らせいたします。当テーマは、株式会社オキサイドを幹事会社として、Mipox株式会社、株式会社UJ-Crystal、国立大学法人東海国立大学機構 名古屋大学、アイクリスタル株式会社、国立研究開発法人産業技術総合研究所の6者共同で受託いたします。 「グリーンイノベーション基金」は、2020年12月25日に経済産業省が関係省庁と策定した「2050年カーボンニュートラルに伴うグリーン成長戦略」の中で「経済と環境の好循環」を作り出すためにNEDOに創設された基金であり、カーボンニュートラル社会の実現に不可欠なデジタルインフラの省エネ化・高性能化に向けて6者で邁進してまいります。[画像1: https://prtimes.jp/i/54807/23/resize/d54807-23-7eb9ccb129de3eead6e5-1.jpg ] 本プロジェクトは、カーボンニュートラル社会の実現に向け、2030年までに次世代パワー半導体向けの超高品質8インチSiC（炭化ケイ素）ウェハの社会実装を目的に、溶液法とプロセス・インフォマティクス技術を活用したSiC結晶成長技術の開発と、大口径SiCウェハ向け加工・評価技術の開発を行うものです。テーマ「次世代パワー半導体に用いるウェハ技術開発」において、当社は、独自の卓越した結晶加工技術と結晶評価技術によりSiCウェハ量産加工技術・評価を担当します。■詳細は、NEDOより本日公表された資料をご参照ください。https://www.nedo.go.jp/news/press/AA5_101513.html(ご参考)[画像2: https://prtimes.jp/i/54807/23/resize/d54807-23-6f068e410c6ecff244f1-2.jpg ](左から順に)当社代表取締役社長 渡邉 淳株式会社UJ-Crystal代表取締役社長 兼 名古屋大学教授 宇治原徹株式会社オキサイド代表取締役社長 古川保典■Mipox概要ブランド名： Mipox（マイポックス）[画像3: https://prtimes.jp/i/54807/23/resize/d54807-23-ef83557460c25f815a41-3.jpg ] Mipox株式会社は1925年にドイツ顔料の商社としてスタートし、1970年代より本格的に研磨分野に参入しました。当社の事業は非常にニッチではありますが、「塗る」「切る」「磨く」のコア技術を基に、ハードディスクや光ファイバーをはじめとするハイテク分野で強みを発揮し、近年では日本研紙株式会社が仲間に入り、一般研磨分野へも用途の拡大を図っております。 ニューノーマルにおいても「塗る・切る・磨く」のニーズは続きます。次世代半導体、5G、IoTや世界の情報を貯めるデータストレージなどのハイテクにとどまらず、公園再生プロジェクトなど身近な「磨く」への取り組みも始めています。コア技術の「塗る・切る・磨く」に続く新技術への取り組みも進めており、「観る」を軸とした観察・検査装置に力を入れてまいります。 これからの時代は、お客様への価値の提供だけでは企業成長は望めません。企業成長のドライバーである社員が力を最大限発揮できるよう、多様な価値観の受け入れ、様々な働き方の承認、等しい教育の機会の提供などを通じ、自律自走の組織を目指します。 今後、我々のコア技術「塗る・切る・磨く」で、その分野のプロフェッショナルとしてチャレンジし続け、社会やお客様が実現したいことを具現化し、世界を変えていきます。■会社概要会社名 Mipox株式会社所在地 東京都新宿区西新宿6-11-3 Dタワー西新宿16階創業 大正14年(1925年)11月21日代表 代表取締役社長 渡邉 淳URL http://www.mipox.co.jp/証券コード 5381企業プレスリリース詳細へPR TIMESトップへ