ニューフレアテクノロジー(NFT)は、4月9,10日にパシフィコ横浜アネックスホール(神奈川県横浜市)で開催される「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition 第32回ホトマスク技術展示会」に出展します。
本展示会は、フォトマスクおよび次世代リソグラフィーマスク技術に関する国際シンポジウム「Photomask Japan 2026」に併設開催されるものです。
今回、NFTは、A14ノードの半導体製造用マスク量産に対応したマルチ電子ビームマスク描画装置「MBM(TM)-4000」、10/7nm～成熟ノードの半導体製造用マスクを透過反射同時検査により60分以下の高速で実現するマスク検査装置「NPI-8000シリーズ」、ならびに各製品のロードマップを紹介します。
NFTは、電子ビームマスク描画装置のベースとなる電子技術とマスク検査装置のベースとなる光学技術の両技術を持っており、今後も、技術的シナジーを発揮して最先端の技術開発に邁進していきます。
[表: https://prtimes.jp/data/corp/154737/table/14_1_3faf6136c6a08a08a6853fe5eeb855ec.jpg?v=202603310945 ]
関連サイト
Photomask Japan 2026 | Technical Exhibition (Japanese)
以上企業プレスリリース詳細へ : https://prtimes.jp/main/html/rd/p/000000014.000154737.htmlPR TIMESトップへ : https://prtimes.jp
本展示会は、フォトマスクおよび次世代リソグラフィーマスク技術に関する国際シンポジウム「Photomask Japan 2026」に併設開催されるものです。
今回、NFTは、A14ノードの半導体製造用マスク量産に対応したマルチ電子ビームマスク描画装置「MBM(TM)-4000」、10/7nm～成熟ノードの半導体製造用マスクを透過反射同時検査により60分以下の高速で実現するマスク検査装置「NPI-8000シリーズ」、ならびに各製品のロードマップを紹介します。
NFTは、電子ビームマスク描画装置のベースとなる電子技術とマスク検査装置のベースとなる光学技術の両技術を持っており、今後も、技術的シナジーを発揮して最先端の技術開発に邁進していきます。
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