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半導体業界は、プロセスの微細化とウエハーの大口径化によって、チップコストの低減とデバイスの性能向上の両輪で成長を続けてきました。
■ i線露光装置として最高水準(※2)の生産性と重ね合わせ精度を実現
シーケンス最適化によるウエハー処理時間の短縮と、ウエハーロット交換時間の短縮により、同等クラスのi線露光装置として最高水準(※2)の生産性(ウエハー処理能力)を実現しています。
キヤノンの独自技術である、ショットの縦横倍率差とskew(スキュー)成分(※3)を補正できる、ショット形状補正機能「SSC(Shot Shape Compensator)」を投影光学系に搭載し、下地ショット形状に合わせて重ね焼きすることで、最高水準※2の重ね合わせ精度を実現しています。
■ ロジック/メモリー/イメージセンサー向けに多様なソリューションで対応
IoT、AI、ビッグデータ時代の到来により、大規模なストレージの需要が拡大しています。
また、自動運転や運転支援システムなどの進展により、高感度なイメージセンサーの需要も高まっており、装置には多様なプロセスへの対応力が求められています。新製品は、プロセスに応じたソリューションの選択、組み合わせが可能です。生産性と重ね合わせ精度に対応するソリューションに加え、「FPA-5510iZ」(2007年6月発売)、「FPA-5510iZs」(2014年6月発売)で開発した、カラーフィルタープロセス向けのソリューションを備えており、多様なプロセスニーズに対応します。
※1 水銀ランプ波長365nmの光源を利用した半導体露光装置。1nm(ナノメートル)は10億分の1メートル。
※2 同等クラスのi線ステッパーにおいて。
※3 斜め方向のショットひずみ。
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