2026年3月5日、中国メディア・観察者網は、全国人民代表会議の開催に合わせて中国の半導体大手企業の幹部や学者ら9人が「科技導報」に共同論文を発表し、国を挙げてオランダの露光装置大手ASMLに匹敵する中国版の開発体制を構築するよう呼び掛けたと報じた。
記事は、2020年以降に半導体製造が米中技術競争の主戦場となり、米国が中国の7ナノメートル以下の先端プロセスにおける生産能力拡大を阻止するため、継続的に制限措置を講じてきたと指摘。
その上で、ASMLのEUV露光装置は10万個の部品と5000社のサプライヤーによって成り立つ精密機器の集大成であり、米国はすでにASMLから中国へのEUV装置輸出を禁止していると紹介。これに対処するため、EUVのレーザー光源や移動プラットフォーム、光学システムなどの主要分野で技術的なブレイクスルーを達成している中国が「国力を結集」して、完全な産業システムとして統合することが、2026～30年の第15次五カ年計画期間中に解決すべき緊急課題であると論じたことを報じている。
また、論文の著者らは、中国版ASMLを創設し、資金と人材資源を統一的に調達する実施案を関係部門が直ちに策定すべきだと主張しており、EDAやシリコンウエハーについても国家レベルで統括指導し、企業協力における新たな共益メカニズムを創出する必要があると訴えたことを紹介した。
記事は一方で、中国の半導体産業は「小規模・分散・脆弱（ぜいじゃく）」という同質化競争が依然として深刻であり、売上高1000万元（約2億3000万円）未満の企業が多数を占めるなど、産業構造の課題も浮き彫りになっていると指摘。論文が「核心技術は買うことも求めることもできない以上、自らの手でやり遂げるしかない」と結び、中華民族の台頭を阻む障害はないとの強い決意を示したと伝えた。（編集・翻訳/川尻）
