電気通信大学(電通大)は5月13日、次世代太陽電池材料として注目される「コロイド量子ドットインク」において、「超低温フォトルミネッセンス(PL)・マッピング」技術を用いて薄膜の形態欠陥に由来する発光を直接観測することに成功し、製造コスト削減と大面積化に伴う効率低下という2つの主要課題を同時に克服する革新的なインク技術を開発したと発表した。
同成果は、電通大 基盤理工学専攻の沈青教授、同・Shi Guozheng客員研究員(研究当時)、東京大学 先端科学技術研究センターの久保貴哉特任教授、同・瀬川浩司シニアリサーチフェロー(研究当時:東大大学院 総合文化研究科 教授)、中国・蘇州大学のMa Wanli教授らの国際共同研究チームによるもの。
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